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张哲瀚 标准解读(du)

涂镀层检测方法解析

紧固件常(chang)见(jian)失效案例解(jie)析

镀层厚度测量——金(jin)相法

GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层厚度测量显微镜法
适用范围:
金属覆盖层、氧化膜层、釉瓷或玻璃搪瓷覆盖层的局部厚度
不适用于大件或贵重件(破坏性检测)的常规检测
可测量极小面积覆盖层的明显变化(如麻点、裂纹区域)——GBT 12334-2001

金属和其他非有机覆盖层关于厚度测量的定义和一般规则
测量不确定度
应保证在1微米或真实厚度的10%中较大的一个值内
能达到0.8微米的绝对不确定度,厚度大于25微米时,不确定度为5%或更小
条件良好时,能得到0.4微米的不确定度

测量流程
取样:
总面积有限的若干小件
主要表面<1cm2:试件整个主要表面,次数双方商定
主要表面大于1cm2:在1cm2参比面测量,次数双方商定
金相制样
显微镜下测量
沿规定的显微镜截面长度至少取五点
规定的显微镜截面长度:对电镀层,此长度宜5mm;对厚度均匀的
覆盖层,此长度可为20mm(报告中应包括测量点分布的长度)
关键的仲裁测量:制备和测量都要进行两次

常见(jian)镀层

达克罗镀层

达克罗镀(du)层 表面(mian)镀(du)铜,再镀(du)锡

镀铬

镀(du)铬

影响(xiang)因素

镀层或基体表面粗糙度
横断面斜度

横断面应垂直(zhi)于覆盖层



—研磨前在边缘做标记,以确定倾斜度



—保持研磨时间、压力最小



—切割时,横断面垂直



—研磨用力均匀


影响因素
• 覆盖层变形
软、低熔点、脆性覆盖层或基体
—保持研磨时间、压力最小
尽量减小样(yang)品制(zhi)备(bei)引起的材质(zhi)变形

冷镶
—研磨抛光时去除取样引起的变形
—制备软试样时,采用大量流动的润滑剂或浸没试样
—砂粒嵌入试样时,研磨后手工轻磨再抛光,或浸蚀、抛光几次

影响因素—覆盖层(ceng)边缘倒角(jiao)

锡箔

镶嵌前附加镀层:
– 与覆盖层硬度相近,厚度至少10微米;

– 对于硬脆覆(fu)盖层(如氧化膜(mo)或铬(ge)镀层),裹软铝箔;


– 锌镀层上可附加镉镀层,反之亦然


• 附加镀层

– 在附加镀层(ceng)前的表(biao)面(mian)制备中,会(hui)除去(qu)部分覆盖(gai)层(ceng)材质

影响因素—浸蚀

提高金属层间的反差,使界线清晰
过度浸蚀使界线不清晰或线条变宽












影响因素

遮盖

抛光不适当或附加软金(jin)属(shu)镀层,使一种金(jin)属(shu)遮盖(gai)在另一金(jin)属(shu)上

— 反复(fu)制(zhi)备横断面,直至厚(hou)度(du)测量重(zhong)现

— 附加较硬镀层

放大率

放(fang)大率越(yue)小,误(wu)差越(yue)大

— 合适的放大率:使显微镜(jing)视野为(wei)覆盖层(ceng)厚度的1.5~3倍

显微镜
— 定期校准


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